TDK演示垂直磁记录实验 面密度150Gbit/平方英寸
DoSTOR ◎ 2005-05-23 存储在线
导读： 存储在线 5月23日北京消息：TDK在该公司的技术展示会“TDK技术论坛2005”上进行了一场实证演示，采用垂直磁记录方式将硬盘的面记录密度提高到了150Gbit/平方英寸。演示中采用自旋支架（Spin Stand）进行记录播放，同时从747曲线中导出面记录密度。通过配合使用该公司面向垂直磁记录方式开发的磁头和合?
存储在线 5月23日北京消息：TDK在该公司的技术展示会“TDK技术论坛2005”上进行了一场实证演示，采用垂直磁记录方式将硬盘的面记录密度提高到了150Gbit/平方英寸。演示中采用自旋支架（Spin Stand）进行记录播放，同时从747曲线中导出面记录密度。通过配合使用该公司面向垂直磁记录方式开发的磁头和合作伙伴提供的记录媒体实现。不过此次并未公布合作厂商的名字。
据该公司称：“在实验室中进行评测时，面记录密度高达170Gbit/平方英寸。”通过优化设计，预计使用此次的磁头和记录媒体也可取得高于200Gbit/平方英寸的面记录密度。
此次采用的垂直磁记录方式的概要如下：线记录密度为980kBPI，磁轨密度为155kTPI。磁头采用播放磁头与记录磁头一体化的设计，已在研讨会上进行过发表。播放磁头采用了该公司面向水平记录方式供应的TMR元件。
据该公司称：“在实验室中进行评测时，面记录密度高达170Gbit/平方英寸。”通过优化设计，预计使用此次的磁头和记录媒体也可取得高于200Gbit/平方英寸的面记录密度。
此次采用的垂直磁记录方式的概要如下：线记录密度为980kBPI，磁轨密度为155kTPI。磁头采用播放磁头与记录磁头一体化的设计，已在研讨会上进行过发表。播放磁头采用了该公司面向水平记录方式供应的TMR元件。
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