存储在线 5月20日北京消息：5月21日，希捷研究中心磁记录介质研究主管韦勒博士(Dr. Dieter Weller)将到北京、湖南两地的高校进行学术交流，演讲题目为“海量存储的未来:挑战1TBit/sqin的记录密度”。存储在线将对Dieter Weller博士此行进行跟踪报道，并与其探讨读者们所感兴趣的存储介质等方面一些话题。对此感兴趣的读者也可以把你们想问的问题发给我们（editor@dostor.com），相信Dieter Weller博士一定会给你一个满意的回答。

希捷研究中心介质研究主管Dieter Weller博士

    此次讲座将于5月21日和24日分别在清华大学和湖南大学举行。届时韦勒博士将介绍存储密度超过50Gbit/平方英寸产品的数据，和在世界研究前沿的超越100Gbit/平方英寸的存储系统模型。这样高的存储密度是基於垂直磁记录技术平台，由全新的垂直记录磁头和垂直记录介质的设计来实现。该讲座还将介绍垂直磁记录和激光磁记录的物理过程，磁头，磁介质材料的选择和局限，薄膜微结构的要求，以及现有的科技怎样迎接未来发展的挑战。

    现今硬盘记录介质的磁性晶粒平均尺寸在8到10纳米之间，晶粒尺寸分布标准偏差接近于20%。要实现远高于100Gbit/平方英寸的存储密度，需要作为记录介质的磁性材料有更小的颗粒（颗粒尺寸在5~8纳米之间），更好的磁热稳定性即更高的磁晶各向异性，和更紧密的晶粒尺寸分布（小于15%）。在提高磁晶各向异性的同时，还要求磁头有相应提高的擦写磁场来实现磁记录。实验和理论都证明，在记录磁层下面加入软磁镜像层不仅可以增强垂直记录的擦写磁场，而且能限制该磁场于更小的区域，从而达到高记录密度。希捷公司在2003年底完成170Gbit/平方英寸磁记录演示。这是现今世界上最高的磁记录密度演示,证明垂直记录技术是十分可行，并有可观的应用价值。

    尽管如此，要实现Tbit/平方英寸存储密度，还需要在磁头和磁记录介质上有重大的改进。一个最基本的限制来自于磁记录介质的溅射镀膜工艺，要用这个工艺实现上述磁性颗粒尺寸和分布的难度很大。一项被称之为“自组装磁性颗粒阵列”- SOMA (self-organized magnetic array)的热门技术被看好为未来磁介质合成的手段。该技术有望让3-4纳米尺寸的铁铂合金颗粒在磁记录介质表面形成规则的密排分布。该铁铂合金具有化学有序结构，其磁晶各向异性是常规使用的钴铂合金的10-20倍以上。更重要的是成熟的化学制备手段使获得小於5%尺寸分布的纳米颗粒成为现实。由於铁铂合金如此之高的磁晶各向异性，其室温下的矫顽力也很大。现有的擦写磁头所提供的磁场不能有效的翻转这些磁性颗粒的磁化方向,而且自然界现已知的软磁材料都不能提供这种超高磁场。一种可能的解决方案是利用热辅助磁记录(HAMR）或称激光磁记录来实现数据擦写。在字节写入时用激光加热磁头正在写入的区域，并在写入后迅速冷却，从而实现数据擦写和保存。如果把HAMR技术与SOMA 技术结合起来，就有望使每个磁纳米晶粒成为记录单元。其最终实现的存储密度接近于50Tbit/平方英寸！这相当于如今硬盘产品的1000倍或在一元硬币的表面上获得2000GB的存储容量。

    美国权威的IEEE(电气和电子工程师学会)磁学和磁性材料分会每年评选三位杰出学者,资助他们就最前沿的课题在美国和日本进行演讲交流.希捷公司的材料科学家韦勒博士是今年入选的杰出学者之一。(http://www.ieeemagnetics.org/Newsletter/Jan04/Dist_lectures_2004.html)韦勒博士于1982年获得德国Marburg大学物理学学士学位，1985年获得德国科隆大学物理学博士。1985年-1990年在德国Erlangen的西门子AG中央实验室工作，负责磁光记录材料与磁光记录介质的制备与测试。1990到2000，在美国加州圣荷塞市IBM研究所，负责薄膜与多层膜的电子特性、磁性和磁光特性的研究. 于2000年4月加盟位于宾州匹兹堡市的希捷研究中心，担任磁记录介质研究部主管。他近期关注的研究领域之一是探索超高密度磁记录的可行性设计以及纳米磁性材料的合成。
  
   韦勒博士是美国物理学会(APS)的永久会员， 也是IEEE 和美国真空学会(AVS)的会员。他拥有14个美国专利和15个待决专利申请。他发表了200多篇的科技杂志论文和科技图书文章。他是《高密度磁记录物理学》的编辑和作者之一。他曾为《应用物理学》和IEEE《磁学和磁性材料通讯》担任客座编辑，也是第八届磁学磁性材料会议/国际磁学会议的论坛主席。韦勒博士是即将在今年科罗拉多巨石城(Boulder)举行的磁记录年会-TMRC和在2005年日本名古屋举行的“国际磁学”年会的论坛主席。   

    DR. DIETER WELLER 讲座的时间安排:
  
    时间：5月21日 9:00am-11:00am
    地点:北京清华大学材料系学术报告厅(逸夫技术科学楼2-321室)

    时间：5月21日15:00pm－16:30pm
    地点：中科院物理研究所D楼大报告厅：D212会议室

    时间: 5 月24 日 9:00am-11:00am
    地点:湖南长沙湖南大学复临舍报告厅